国产光刻机（国产光刻机可以达到多少纳米）

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中国光刻机处于什么水平

中国光刻机产品研究已经达到了“中端水平”。

我国的光刻机处于世界的先进水平，但没有达到顶尖水平：我国的光刻机发展已经近到了28纳米的光刻机，可以满足日常的射频芯片，蓝牙芯片以及其他电器中的一些芯片的要求和标准。

中国光刻机现在达到了22纳米。在上海微电子技术取得突破之前，我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm制程的芯片。这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化。

1、上海微电子装备股份有限公司，在国内占据了百分之八十的市场份额，到目前为止该公司已在微电子制造相关领域申请了2400余项专利，称得上是国内的光刻机巨头了。

2、相比之下，中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司（SMEE）已经量产的光刻机中，性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm，相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。

3、但国内市场上，其实已经有7nm光刻机。在年12月，SK海力士无锡工厂进口了中国首台7nm光刻机。海力士也是ASML的股东之一。第三，目前国产最先进的光刻机，应该是22nm。

4、晶瑞股份是国内技术领先的微电子化学品龙头，产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池粘结剂等。上海新阳核心逻辑：半导体业务驱动21Q1经营业绩高增长，购买光刻机布局高端光刻胶项目。

1、中国光刻机产品研究已经达到了“中端水平”。

2、现在国内的光刻机能达到多少纳米的技术？官网显示，目前最先进的光刻机是600系列，光刻机中最高的生产工艺可以达到90nm。然而，与荷兰ASML公司拥有的EUV掩模对准器相比，它可以通过高达5纳米的工艺制造。

3、中国光刻机距离世界先进水平，还有较大的差距。，目前全球最先进的光刻机，已经实现5nm的目标。这是荷兰ASML实现的。而ASML也不是自己一家就能够完成，而是国际合作才能实现的。

4、导致中国光刻机的起步晚、资金投入少、人才也相对不足，这些都是需要解决的问题。除非由牵头并且进行人才资源的相关倾斜，否则国产光刻机最多也就能达到中端水平，基本上不具备追赶上ASML公司的可能性。